我們的EVG770分步重複納米壓印光刻機是用於步進式納米壓印光刻的通用平台，可用於有效地進行母版製作或對基板上的複雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大麵積均勻地複製模板。結合金剛石車削或直接寫入方法，分步重複刻印通常用於有效地製造晶圓級光學器件製造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。