Thetametrisis顯示器薄膜測量儀 FR-Scanner 是一種緊湊的台式工具，適用於自動測繪晶圓片上的塗層厚度。FR-Scanner 可以快速和準確測量薄膜特性：厚度，折射率，均勻性，顏色等。真空吸盤可應用於任何直徑或其他形狀的樣片。
1、應用
半導體生產製造：(光刻膠, 電介質,光子多層結構， poly-Si, Si, DLC, )
光伏產業
液晶顯示
光學薄膜
聚合物
微機電係統和微光機電係統
基底：透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明
Thetametrisis顯示器薄膜測量儀*的光學模塊可容納所有光學部件：分光計、複合光源(壽命10000小時)、高精度反射探頭。因此，在準確性、重現性和長期穩定性方麵保證了優異的性能。
Thetametrisis顯示器薄膜測量儀 FR-Scanner 通過高速旋轉平台和光學探頭直線移動掃描晶圓片(極坐標掃描)。通過這種方法，可以在很短的時間內記錄具有高重複性的精確反射率數據，這使得FR-Scanner 成為測繪晶圓塗層或其他基片塗層的理想工具。
2、特征
單點分析(不需要預估值)
動態測量
包括光學參數(n和k，顏色) o 為演示保存視頻
600 多種的預存材料
離線分析
免費軟件更新
3、性能參數
4、測量原理
白光反射光譜(WLRS)是測量從單層薄膜或多層堆疊結構的一個波長範圍內光的反射量，入射光垂直於樣品表麵，由於界麵幹涉產生的反射光譜被用來計算確定(透明或部分透明或*反射基板上)的薄膜的厚度、光學常數(n和k)等。
1、樣片平台可容納任意形狀的樣品。450mm平台也可根據要求提供。真正的X-Y掃描也可能通過定製配置；
2、矽基板上的單層SiO2薄膜的厚度值。對於其他薄膜/基質，這些值可能略有不同；
3、15天平均值的標準差平均值。樣品：矽晶片上1微米的二氧化矽；
4、2 X (超過15天的日平均值的標準偏差)。樣品：矽晶片上1微米的二氧化矽；
5、測量結果與校準的光譜橢偏儀比較；
6、根據材料；
7、測量以8 "晶圓為基準。如有特殊要求，掃描速度可超過1000次測量/每分鐘；
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